




EB真空鍍膜MEMS真空鍍膜加工平臺——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會發(fā)展的實際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。
先來介紹一下,什么是磁控濺射鍍膜機(jī)?百度百科上,EB真空鍍膜公司,關(guān)于磁控濺射鍍膜機(jī)是這樣解釋的:磁控濺射鍍膜機(jī)是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,是一種普適鍍膜機(jī),目前主要用于實驗室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。
這還要從這種機(jī)器的系統(tǒng)組成說起,磁控濺射鍍膜機(jī)內(nèi)部系統(tǒng)主要是由:真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計算機(jī)控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。
除此之外,標(biāo)準(zhǔn)的磁控濺射鍍膜機(jī),它的技術(shù)指標(biāo)也是有一個固定值的,就像是磁控濺射鍍膜機(jī)的真空部分,包括真空室系統(tǒng)濺射室、真空抽氣及測量系統(tǒng),對于這兩部分來說,它們的極限真空度應(yīng)該為:6.7×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S。***真空的時間應(yīng)該在:40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa(短時間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣)。
不僅如此,除了技術(shù)指標(biāo)之外,這些設(shè)備的尺寸指標(biāo)也是有合格標(biāo)準(zhǔn)的。真空室的標(biāo)準(zhǔn)大小應(yīng)該處于:圓形真空室,尺寸550× 450mm。樣品臺的標(biāo)準(zhǔn)尺寸應(yīng)該是:尺寸為直徑350mmX280mm,滾筒結(jié)構(gòu)。包括磁控靶:有效濺射區(qū)為3英寸×3英寸,數(shù)量:4支,標(biāo)準(zhǔn)型永磁靶,1支,標(biāo)準(zhǔn)型強(qiáng)磁靶,釬焊間接水冷結(jié)構(gòu);靶直徑Φ60㎜,靶內(nèi)水冷。靶基距為50~90mm連續(xù)可調(diào)(手動),并有調(diào)位距離指示。

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通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。在濺射中,濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的,吉林EB真空鍍膜,其能量較高,往往比蒸發(fā)原子高出1~2個數(shù)量級,因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。若在濺射時襯底加適當(dāng)?shù)钠珘?,可以兼顧襯底的清潔處理,這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外,用濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點(diǎn)、低蒸氣壓物質(zhì)膜,便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。
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離子束濺射裝置中,由離子提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產(chǎn)生濺射。離子可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產(chǎn)生電荷堆積,可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應(yīng)用于表面分析儀器中,對樣品進(jìn)行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限,EB真空鍍膜平臺,用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難?!〉入x子體濺射也稱輝光放電濺射。產(chǎn)生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個高的負(fù)電位,正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產(chǎn)生濺射,同時不可避免地發(fā)生電子對襯底的轟擊。
真空鍍膜機(jī)磁控濺射工藝,也分好幾種,主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應(yīng)濺射等,選擇哪一種濺射方法,具體要看鍍什么工件,工件是什么材質(zhì),鍍什么膜層而決定。

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