光學(xué)鍍膜簡介及原理 為了地提高或降低干涉，它們的光學(xué)厚度通常為應(yīng)用中所使用的光的波長的 λ/4 光學(xué)厚度 (QWOT) 或 λ/2 光學(xué)厚度 (HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，從而誘發(fā)需要的干涉效應(yīng)光學(xué)鍍膜的設(shè)計是為了提高光學(xué)組件在特定入射和偏振角度（如 s 偏振，塑料漸變加工LOGO定制，p 偏振或隨機(jī)偏振）下的性能。塑料漸變加工塑料漸變加工塑料漸變加工
這種級別的控制能實(shí)現(xiàn)高重現(xiàn)性的鍍膜批次和的層厚度誤差，常平塑料漸變加工，從而確保鍍膜性能與設(shè)計的光譜和相位參數(shù)一致。5 IBS鍍膜比使用其他鍍膜技術(shù)的鍍膜要光滑得多，塑料漸變加工供應(yīng)商，這使得 IBS 成為一種能夠制造出反射率超過99.99% 的“超級鏡面”的鍍膜技術(shù)，塑料漸變加工零售，而且鍍膜的粗糙度也比的基片低。IBS 鍍膜的高密度使其堅(jiān)固耐用，提高了其耐化學(xué)性，延長了鍍膜的使用壽命，使其能夠承受更惡劣的環(huán)境。
等離子濺射在蒸發(fā)沉積和離子束濺射之間實(shí)現(xiàn)了價格和性能的折中。離子束濺射 (IBS)在離子束濺射 (IBS) 過程中，利用高能電場加速離子束（圖 5）。這一加速度會給離子提供顯著的動能 (~10-100 eV)。當(dāng)源材料受到?jīng)_擊時，源材料離子從目標(biāo)“濺射”，并在與光學(xué)表面接觸后形成致密膜。5 使用 IBS 鍍膜而不是蒸發(fā)沉積的一個主要優(yōu)點(diǎn)是能夠更地監(jiān)測和控制單個鍍膜的生長速度、能量輸入和氧化水平。
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