引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會(huì)產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對(duì)原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴(kuò)散泵返油對(duì)玻璃的污染。同時(shí)可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動(dòng)能及擴(kuò)散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度（B）對(duì)膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場(chǎng)垂直的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度B，因?yàn)樗酱艌?chǎng)強(qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個(gè)均勻的數(shù)值。而實(shí)際生產(chǎn)過程中值是隨著使用方法及時(shí)間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗(yàn)證。

真空鍍膜機(jī)工作的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)工作的特點(diǎn)是濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定中頻設(shè)備必須加冷卻水進(jìn)行冷卻，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣會(huì)使電導(dǎo)發(fā)熱，所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到、率控制溫度的目的，因?yàn)樽匀凰退岫疾豢杀苊獾厥艿阶匀粴鉁氐挠绊?，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí)，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位（180°位移）時(shí)，其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和***性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過單層增透膜例子說明。當(dāng)光傳輸穿過系統(tǒng)時(shí)，在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們?cè)趥€(gè)接口重組時(shí)，這兩個(gè)反射部分具有180°的相位移。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。